Этот тип волновой пластины нулевого порядка состоит из настоящей волновой пластины нулевого порядка и подложки BK7, поскольку волновая пластина очень тонкая и ее легко повредить, функция пластины BK7 заключается в укреплении волновой пластины.
Функции: Широкая спектральная полоса пропускания Широкий диапазон температур Широкий угол полосы пропускания Зацементировано Expoy |
|
Номер товара :
WPAПроисхождение продукта :
FuZhouТехнические характеристики:
Материал:
|
Кварц
|
Допуск диаметра:
|
+0,0, -0,1мм
|
Искажение волнового фронта:
|
λ/8 @ 632,8 нм
|
Устойчивость к задержке:
|
λ/300
|
Параллелизм:
|
<1 угловая секунда
|
Качество поверхности:
|
20/10
|
Чистая апертура:
|
>90%
|
Покрытие:
|
S1&S2: Р<0,2% при длине волны
|
Стандартная длина волны:
|
355 нм, 532 нм, 632,8 нм, 780 нм, 808 нм, 850 нм, 980 нм, 1064 нм, 1310 нм, 1480 нм, 1550 нм
|
Стандартная продукция:
Полуволновые пластины P/N#
|
Четвертьволновые пластины P/N#
|
Диаметр (мм)
|
WPF210
|
WPF410
|
10.0
|
WPF212
|
WPF412
|
12.7
|
WPF215
|
WPF415
|
15.0
|
WPF220
|
WPF420
|
20.0
|
WPF225
|
WPF425
|
25.4
|
WPF230
|
WPF430
|
30.0
|
Технические преимущества волновой пластины истинного нулевого порядка:
Истинная волновая пластина нулевого порядка достигает подлинной нулевой фазовой задержки (не эквивалентной многопорядковой суперпозиции) за счет точного расчета толщины одного двулучепреломляющего материала с техническими преимуществами, включающими: сверхточный контроль фазы, достижение точности задержки λ/1000-уровня (фазовая ошибка < 0,1%) и зависимость от длины волны < 0,5% во всем спектральном диапазоне 350-2200 нм, что намного превосходит традиционные многопорядковые/сцементированные структуры; чрезвычайно широкая температурная стабильность с изменением замедления < 1,5% во время работы при температуре от -50°C до 120°C, что устраняет необходимость в контроле температуры в экстремальных условиях; и сверхвысокий порог повреждения лазера (>20 Дж/см² при 1064 нм, 10 нс), подходящий для мощных приложений, таких как фемтосекундные импульсные лазеры. В системах квантовых запутанных источников света его чувствительность к субнанометровой длине волны повышает точность состояния поляризации до более чем 99,9%; в оборудовании для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) его стабильная фазовая задержка обеспечивает точность поляризации ±0,05° для источников света 13,5 нм, помогая оптимизировать литографическое разрешение наномасштабных схемных рисунков.