Фторид магния (MgF2) представляет собой тетрагональный положительный двулучепреломляющий кристалл. MgF2 обладает хорошими химическими, механическими и термическими характеристиками по сравнению с CaF2. Благодаря высокому уровню пропускания УФ-излучения в вакууме и высокому порогу повреждения MgF2 обычно используется в окнах, поляризаторах, линзах и т. д. лазеров ВУФ и эксимерного лазера.
Номер товара :
MgF2 MaterialПроисхождение продукта :
FuZhouХарактеристики:
Дальность передачи: | 120 нм ~ 7000 нм |
Коэффициент теплового расширения: | ||а=13,7x10-6/К, ||с=8,48x10-6/K |
Плотность: | 3,17 г/см33 |
Теплопроводность: | 0,0075 Вт/М/К |
Показатель преломления: | @405нм no=1,3836, нe=1,3957 |
Технические характеристики:
Допуск диаметра: | +0,0, -0,1мм |
Допуск толщины | ±0,2 мм |
Чистая апертура: | >80% (маленький размер); >90% (большой размер) |
Параллелизм: | <1 угловая минута (общая); <10 угловых секунд (высокая точность) |
Качество поверхности: | 80/50 (Обычный); 40/20 (Высокая точность) |
Плоскостность: | λ/2 (общий); λ/8 (высокая точность) |
Покрытие: | Покрытие по запросу |
Почему стоит выбрать материал фторид магния (MgF2)?
Фторид магния (MgF₂) — это монокристаллический материал, известный своими исключительными оптическими свойствами, отличающимися низким показателем преломления и широкополосной прозрачностью в оптических покрытиях и прецизионных оптических компонентах. Его кристаллическая структура обеспечивает высокую передачу от ультрафиолетового (150 нм) до среднего инфракрасного (8 мкм) диапазона, демонстрируя чрезвычайно низкие потери поглощения в глубоком УФ-диапазоне в сочетании с высокой химической стабильностью и атмосферостойкостью для поддержания оптических характеристик во влажных или коррозионных средах. Благодаря низкому тепловому расширению и высокому порогу повреждения лазером MgF₂ не только широко используется в качестве основного материала для антибликовых (AR) покрытий для минимизации поверхностных отражений, но и перерабатывается в УФ-линзы, оптические окна и призмы. Он находит широкое применение в системах УФ-литографии, лазерных спектрометрах и инфракрасных устройствах формирования изображений, особенно подходит для прецизионных оптических установок, требующих низкой отражательной способности и широкополосной передачи.